Wet Etching & Cleaning Solutions
반도체 제조 세정 공정에 사용되는 Single Wafer세정장치, Batch Wafer 세정장치를 중심으로 전공정(Clean, Etch, Strip)과 후공정(Flux, Etch, Debond)대응의 설비를 제조 공급하고 있습니다.
반도체 제조 세정 공정에 사용되는 Single Wafer세정장치, Batch Wafer 세정장치를 중심으로 전공정(Clean, Etch, Strip)과 후공정(Flux, Etch, Debond)대응의 설비를 제조 공급하고 있습니다.