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    반도체 장비

    반도체 제조 세정 공정에 사용되는 Single Wafer세정장치, Batch Wafer 세정장치를 중심으로 전공정(Clean, Etch, Strip)과 후공정(Flux, Etch, Debond)대응의 설비를 제조 공급하고 있습니다. 또한, 메모리 및 로직 디바이스에 사용할 수 있는 실리콘 웨이퍼용 급속 열처리 장비를 공급하고 있습니다.

    ION12
    300mm Single Wafer Processor (12 Chamber)
    APOLLON
    300mm Single Wafer Processor
    VENUS
    High Temperature 300mm Single Wafer Processor
    BW Series
    300mm Batch Wafer Processor
    ATOM
    400mm Single Wafer Processor
    RHP200/150 Series
    Rapid thermal processing system used for leading edge processes for memory or logic devices